激光直接成像LP3000曝光机设备又称影像直接转移曝光机，是半导体生产领域中有别于传统曝光设备的一个重要设备，是利用图形发生器取代传统光刻机的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆上，节省生产时间和制作掩模板的费用，并且自身可用做掩模板的制作。聚焦作为光刻机系统中必不可少的一项关键，聚焦的时间和精度对光刻机系统的性能和曝光图形的质量起到了至关重要的作用。
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激光直接成像LP3000曝光机设备又称影像直接转移曝光机，是半导体生产领域中有别于传统曝光设备的一个重要设备，是利用图形发生器取代传统光刻机的掩模板，从而可以直接将计算机的图形数据曝光到晶圆上，节省生产时间和制作掩模板的费用，并且自身可用做掩模板的制作。聚焦作为光刻机系统中必不可少的一项关键，聚焦的时间和精度对光刻机系统的性能和曝光图形的质量起到了至关重要的作用。
